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艾司摩尔（ASML）的最新的高端芯片生产工具：高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）微影设备。 （路透）英特尔（Intel）正准备接收第二套来自艾司摩尔（ASML）的最新高端芯片生产机器：高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）微影设备。 这套先进设备价格高达3.5亿欧元（3.83亿美元）。
: C* d% O# N* q5 a0 ]$ J路透社5日报道，英特尔执行长基辛格其实是在上周四财报视频说明会时，就提到上述进度。 但上周四美股盘后英特尔发布财报时，强调必须节约开支，随着公告要大裁员、暂停发放股利，公司股价在当时就随即崩了20%，第二天正常交易收盘更重挫26%。 投资人忙着狂抛英特尔股票之时，没人注意到基辛格这段谈话。 ; M- J" T4 f* W$ G- N
英特尔去年12月开始收到第一台艾司摩尔出货的High-NA EUV微影设备，因为机器庞大需要花多个月才能组装完成，一切就绪后，便能够制造新一代、更强大的电脑芯片。
8 [7 K% B. c, }根据财报说明会文字纪录，基辛格在财报说明会上说，「第二套High-NA工具将进到我们奥勒冈州厂区」，公司的科技投资，「正在展现良好的早期迹象」。
5 `! v& ^' u1 A8 w( {% g0 G艾司摩尔高管上月17日曾表示，公司开始出货第二套High-NA设备给客户，未说客户是谁。 High-NA顺利导入市场对艾司摩尔的未来发展也非常关键，但购买的客户究竟何时才会真的启用，仍有不确定性。 ^9 r+ i1 p$ ^" _8 B/ v
目前艾司摩尔拿到的十多张High-NA设备的订单，客户包括台积电、英特尔、三星电子、SK海力士、美光等市场领导大厂。 英特尔计划2027年之前利用High-NA微影技术量产。 台积电今年将接收一套，但没有表明何时用于生产。
8 V- a M2 J4 y% A' T) Y, r艾司摩尔公司（ASML）执行长富凯上月提到DRAM记忆芯片制造厂，可能在2025年或2026年使用High-NA设备。 DRAM记忆芯片制造厂指的是三星、SK海力士、美光。 点击下面文字可快速查看或发布对应的便民信息！ 纽约情报站让您的生活变的更简单
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